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以镁砂和铬矿为基本原料，经在电弧炉内熔融，浇注成型，保温缓冷，切割 等工艺生产。电熔镁铬砖生产的工艺条件如下：
配料：轻烧氧化镁：铬矿=50 : 50,添加少量添加物，混磨，成坯，干燥。
熔融、浇注：坯料在三相电弧炉内熔融，熔融温度为2450 ~2550℃; 熔体浇注到石墨板组成的模型中，浇注温度为2300~2380℃。
退火：浇注体置于填充蛭石的保温箱中缓冷退火，总退火时间为25d左右。
切磨：浇注体脱模后，经切磨制成需要的砖型。

3.1  电炉衬的砌筑
利用HDG-3型电炉，变压器功率为2200kV-A,炉底采用锆质捣打料、石 墨炭砖，炉衬采用黏土轻质砖和中档镁铬砖。
3.2 浇注模板
模板采用石墨质，为了延长寿命，缓和温差在石墨板外用石英砂板包裹。模型上部加盖留出浇口和帽口。
浇模设计：230mm x 357mm x 800mm;
浇注质量：250kg。
浇模设计：260mm x 400mm x 800mm;
浇注质量：280kg。
模板：内模石墨质，厚度40mm;
外模：石英砂质，厚度40mm。
3.3 原料
根据电熔镁铬砖的技术条件，选用水洗铬矿、高铬矿、轻烧氧化镁、制砖镁 砂、工业氧化铝、钛白粉、萤石粉为原料。
原料经配料、混磨、机压成坯，600℃干燥。
3.4  电熔工艺
电熔过程的主要工艺参数见表。
采用光学高温计测量的熔融温 度为2450~2550℃，浇注温度为2300 ~2350℃。电熔镁铬砖浇注成型后，放在填充了蛭石的保温箱中退火，总退火时间为25d左右。但对砖的显微结构，热应力的分布以及体积效应的缓解而言，关键的 时间是浇注成型后初的几个小时。
其中实线是实测曲线，虚线是推测的浇注砖表面的退火曲线。
3.5  电熔镁铬砖的性能
将脱模后的铸块进行理化性能检测。
通过这些不同批量、不同编号电熔镁铬砖的试验，确定了完整的配料、熔 融、浇注工艺参数，可以保证生产出高品质的电熔镁铬耐火材料。
4、电熔镁铬耐火材料的显微结构分析
对试制的电熔镁铬耐火材料进行化学成分和显微结构分析。先对电熔镁铬 砖进行化学成分分析。C-5取样点处于制品的中心，其他编号 的取样点依次向制品的两个方向的外表面过渡。从表3-13中列出的化学成分可以看出，不同取样点的化学组成，以C-5为对称点，呈现非常有规律的向两边递 变的趋势，比如SiO2含量，C-5点含量低，依次向C-1方向和C-7方向递增，同样的规律也表现在A12O3、Fe2O3、Cr2O3的含量上，与此相反MgO含量则以C-5点高，依次向两个方面递减。这些规律说明电熔镁铬砖，方镁石固溶体是先结晶的固体相，硅酸盐是熔点低的熔体，后凝固。
由化学分析结果可以看出，电熔镁铬砖的组成是相当复杂的，这决定了电熔镁铬砖的矿物组成和显微结构也相当复杂。
在电熔镁铬砖组成中，先凝结析晶的是方镁石相。这些方镁石相呈浑圆状，周围被其他矿物分隔包围。图中带有白色斑点的浑圆区域就是方镁石相，它们被白色的条状区(尖晶石)和熔点更低的灰 色浸润状区(硅酸盐相)所包围或彼 此分隔。
还可以看到几小块边角整齐的白色区域，这是尖晶石相，结晶状态完整，是在比较理想的条件下由熔点较低的硅酸盐相中析晶长大的，它的周围伴生存在着大面积的硅酸盐相(灰色浸润状区域)。
利用电子显微镜能谱仪分析电熔镁铬砖砖中的主晶相的成分，可以发现它是个 成分复杂的组合体，氧化镁含量(质量分数)仅为51.63%,而 Cr2O3、A12O3、Fe2O3含量均较高。
尖晶石的化学成分与A12O3、Cr2O3在MgO熔体巾的固溶度相对照可知，两者在A12O3、Cr2O3的相对比例上是相符的，而且非常接近理论值。说明由于A12O3在MgO熔体中的固溶度比较低，因此只要在电熔镁铬砖组分中增加A12O3含量，那么电熔镁铬砖相结构中就会有更多的晶间尖晶石存在。
在电熔镁铬砖中还有一个熔点较低的相，就是硅酸盐相，硅酸盐相包括镁橄 榄石、钙镁橄榄石甚至软化点更低的玻璃相，它们的存在主要取决于电熔镁铬砖 中的SiO2含量。硅酸盐相是后凝结的物相，所以往往存在于方镁石相、晶间尖晶石相之间的缝隙中，过多的硅酸盐当然对电熔镁铬砖的耐火性能不利，但是如果控制数量合理，结构合理，对缓解电熔镁铬砖的热应力和体积效应也是有利的。
电熔镁铬砖的结晶结构不仅与化学成分有关，而且与凝结过程的冷却条件有很密切的关系。
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